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      证券代码:001336

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      离子除臭工艺

       1、高能离子工艺

      工艺介绍

      离子发生装置产生大量的高能正、负离子,它可以与恶臭污染物分子接触,打开恶臭污染物的分子化学键,分解成二氧化碳、水及其他小分子物质;离子发生装置发射离子与空气中尘埃粒子及固体颗粒碰撞,使颗粒荷电产生聚合作用,形成较大颗粒靠自身重力沉降下来,达到净化目的;臭气源通过臭气收集系统,经过滤去除掉颗粒、灰尘之后,进入离子发生器箱体,在此臭气与高能正、负离子接触反应,处理后的洁净气体经风机排入大气。


      该类工艺主要流程图如下所示:


      图片3.png


      2、低温等离子工艺

      工艺介绍

      低温等离子体是继固态、液态、气态之后的物质第四态,当外加电压达到气体的放电电压时,气体被击穿,产生包括电子、多种离子、原子和自由基在内的混合体,在放电的过程中虽然电子温度很高,但重粒子温度很低,整个体系呈现低温状态,所以称为低温等离子体。低温等离子体降解污染物的原理是利用这些高能电子、自由基等活性粒子的协同作用下,轰击废气污染物分子,使其电离、解离、激发,从大分子污染物转变成小分子安全物质,并发生后续的多种物理、化学反应以达到降解污染物的目的。

      该类工艺主要流程图如下所示:


      图片2.png

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